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        底部填充膠可靠性不足如開裂脫落原因分析及解決方案

        發(fā)布時(shí)間:2025-08-27 13:49:48 責(zé)任編輯:漢思新材料閱讀:29

        底部填充膠(Underfill)在電子封裝(尤其是倒裝芯片、BGA、CSP等)中起著至關(guān)重要的作用,它通過填充芯片與基板之間的間隙,均勻分布應(yīng)力,顯著提高焊點(diǎn)抵抗熱循環(huán)和機(jī)械沖擊的能力。然而,如果底部填充膠出現(xiàn)開裂或脫落,會(huì)嚴(yán)重威脅器件的可靠性和壽命。以下是導(dǎo)致這些失效的主要原因分析及相應(yīng)的解決方案:

          

         

        一、 開裂/脫落原因分析 

        1.  材料本身問題:

            CTE(熱膨脹系數(shù))不匹配: 這是最主要的原因之一。填充膠的CTE與芯片(硅,~2.6 ppm/°C)、基板(FR4,~12-18 ppm/°C;BT,~14-15 ppm/°C)或焊料(無鉛焊料,~21-25 ppm/°C)差異過大。在溫度循環(huán)過程中,不同材料膨脹收縮程度不同,在填充膠內(nèi)部或界面處產(chǎn)生巨大的剪切應(yīng)力,超過其強(qiáng)度極限時(shí)就會(huì)開裂(通常在芯片邊緣或角落應(yīng)力集中處開始)。

            模量(彈性模量)過高: 模量過高的填充膠過于剛硬,在應(yīng)力作用下不易發(fā)生微小形變來釋放能量,更容易發(fā)生脆性斷裂。

            韌性不足: 材料本身脆性大,抗沖擊和抗開裂擴(kuò)展能力差。

            固化不完全/固化收縮過大:

            固化不完全: 固化溫度/時(shí)間不足、配方問題或受污染導(dǎo)致交聯(lián)密度不夠,內(nèi)聚強(qiáng)度和粘接強(qiáng)度下降。

            固化收縮過大: 固化過程中體積收縮過大,在膠體內(nèi)或界面處產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力,成為潛在的裂紋源。

            吸水率高/耐濕性差: 吸濕后材料會(huì)膨脹(濕膨脹),在后續(xù)干燥或溫度變化時(shí)產(chǎn)生應(yīng)力。吸濕還會(huì)導(dǎo)致材料塑化、模量下降、Tg降低,并可能引發(fā)水解反應(yīng)破壞粘接或材料本身。在回流焊(尤其是無鉛高溫回流)時(shí),內(nèi)部水分急劇汽化產(chǎn)生蒸汽壓,可能導(dǎo)致“爆米花”式開裂或界面分層。

            Tg(玻璃化轉(zhuǎn)變溫度)過低: 如果填充膠的Tg低于器件的工作溫度或存儲(chǔ)溫度上限,在高溫下材料會(huì)變軟(模量急劇下降),失去支撐和保護(hù)焊點(diǎn)的作用,且更容易發(fā)生蠕變,導(dǎo)致應(yīng)力釋放不良或長期可靠性下降。Tg過低也可能使CTE在高溫區(qū)變得更大,加劇應(yīng)力。

         

        2.  工藝控制不當(dāng):

           點(diǎn)膠/填充不良:

           填充不飽滿/空洞/氣泡: 點(diǎn)膠路徑設(shè)計(jì)不合理、膠量不足、流速/壓力不當(dāng)、溫度不合適(粘度太高或太低)、助焊劑殘留過多阻礙流動(dòng)等,導(dǎo)致填充區(qū)域存在空洞或未完全填充。空洞處是應(yīng)力集中點(diǎn),容易成為裂紋的起始點(diǎn)。未填充區(qū)域則完全失去保護(hù)。

           填充高度不足/過量: 高度不足保護(hù)不夠;過量可能導(dǎo)致膠體爬上芯片側(cè)面過多,在后續(xù)封裝或溫度變化時(shí)因應(yīng)力不同而開裂。

           固化工藝不當(dāng): 未嚴(yán)格按照膠水供應(yīng)商推薦的溫度曲線和時(shí)間進(jìn)行固化(溫度過低、時(shí)間過短、升溫/降溫速率過快)。過快升溫可能導(dǎo)致表面快速固化而內(nèi)部未固化(“表干里不干”),過快降溫則會(huì)產(chǎn)生熱應(yīng)力。

           基板/芯片表面污染:

           助焊劑殘留: 這是最常見的污染源,殘留的松香、活性劑等會(huì)嚴(yán)重削弱填充膠與焊點(diǎn)、阻焊層或芯片鈍化層的粘接力。

            油脂、指紋、灰塵、顆粒物:操作不當(dāng)引入的污染物。

            氧化物/鈍化層特性: 基板焊盤或芯片鈍化層(如SiN, PI)的表面能、粗糙度、化學(xué)性質(zhì)不適合粘接。

            清潔不徹底: 在點(diǎn)膠前未有效去除助焊劑殘留和其他污染物。清潔劑選擇不當(dāng)或清潔工藝(如清洗時(shí)間、溫度、噴淋壓力)不佳也可能留下殘留或損傷表面。

            應(yīng)力點(diǎn): 在組裝或測試過程中,器件受到不當(dāng)?shù)臋C(jī)械應(yīng)力(如彎曲、扭曲、碰撞),可能導(dǎo)致填充膠在固化前或固化后受損。

         

        3.  設(shè)計(jì)因素:

            芯片尺寸過大/間隙過小: 大尺寸芯片在溫度變化時(shí)變形更大,應(yīng)力更大。過小的間隙(Standoff Height)使得填充膠流動(dòng)困難,易產(chǎn)生填充缺陷。

            應(yīng)力集中設(shè)計(jì): 芯片邊緣尖銳、基板上的通孔位置靠近焊點(diǎn)等設(shè)計(jì)會(huì)加劇局部應(yīng)力。

            基板材料選擇: 基板本身的CTE、模量和Tg也會(huì)影響整個(gè)系統(tǒng)的熱機(jī)械應(yīng)力分布。

         

        4.  使用環(huán)境因素:

            嚴(yán)苛的溫度循環(huán): 范圍寬(ΔT大)、速率快的溫度循環(huán)對(duì)填充膠的耐熱疲勞性能是巨大考驗(yàn)。

            高濕度環(huán)境: 長期暴露在高濕環(huán)境下會(huì)加速吸濕,影響材料性能和界面粘接。

        機(jī)械沖擊/振動(dòng): 超出填充膠承受能力的物理沖擊。

         

         

         

        二、 解決方案

         

        1.  優(yōu)化底部填充膠材料選擇:

            匹配CTE: 優(yōu)先選擇CTE介于芯片和基板之間(通常在30-90 ppm/°C范圍內(nèi))并盡可能接近焊料CTE的填充膠。改性環(huán)氧樹脂常通過添加無機(jī)填料(如二氧化硅)來降低CTE。

            調(diào)整模量: 選擇具有適中模量(通常在幾GPa到十幾GPa范圍)的填充膠。過高的模量雖能提供支撐但易裂,過低的模量則支撐不足。可通過添加增韌劑(如橡膠粒子、熱塑性樹脂)提高韌性。

            提高Tg:確保填充膠的Tg顯著高于器件的最高工作溫度和存儲(chǔ)溫度(通常要求高于125°C,無鉛應(yīng)用可能需要>150°C)。

            降低吸水率/提高耐濕性: 選擇疏水性配方或經(jīng)過耐濕改性的填充膠。

            控制固化收縮率: 選擇低收縮配方。

            確保完全固化特性: 選擇固化窗口寬、對(duì)工藝波動(dòng)不敏感的膠水,并確保其能在推薦的條件下完全固化。

            選用知名品牌可靠產(chǎn)品: 如漢高樂泰、漢思新材料等,并索要完整可靠的性能數(shù)據(jù)報(bào)告。

         

        2.  嚴(yán)格控制工藝過程:

            優(yōu)化點(diǎn)膠工藝:

            精確控制膠量: 通過實(shí)驗(yàn)確定最佳膠量(確保充分填充無空洞,且不嚴(yán)重溢出)。

            優(yōu)化點(diǎn)膠路徑與參數(shù): 設(shè)計(jì)合理的點(diǎn)膠軌跡(如L形、U形),控制點(diǎn)膠速度、壓力、針頭高度、溫度(預(yù)熱基板可降低膠水粘度改善流動(dòng)性)。

            真空輔助填充/毛細(xì)流動(dòng)控制: 對(duì)于復(fù)雜結(jié)構(gòu)或小間隙,可采用真空輔助或優(yōu)化膠水流動(dòng)性的配方來促進(jìn)填充,減少氣泡。

        使用自動(dòng)化點(diǎn)膠設(shè)備: 保證一致性和精度。

         

            嚴(yán)格執(zhí)行固化工藝:

            精確遵循推薦曲線: 使用溫度曲線測試儀驗(yàn)證爐溫曲線是否滿足膠水規(guī)格書要求(包括升溫速率、峰值溫度、保溫時(shí)間、降溫速率)。

        避免過快升降溫: 控制升降溫速率以減少熱應(yīng)力。

         

            加強(qiáng)清潔工藝:

            徹底去除助焊劑殘留: 采用有效的清洗工藝(水基或溶劑清洗)和合適的清洗設(shè)備(如浸泡、噴淋、超聲波),并進(jìn)行清洗效果驗(yàn)證(如離子污染度測試、目檢、表面能測試)。

            控制生產(chǎn)環(huán)境: 保持操作環(huán)境清潔(無塵車間),防止二次污染。操作員佩戴防靜電手套。

            表面處理(必要時(shí)): 對(duì)于難粘接的表面,在點(diǎn)膠前可考慮采用等離子體清洗,能顯著提高表面能和活性,去除微觀污染物,極大改善粘接強(qiáng)度。

         

        3.  優(yōu)化設(shè)計(jì)與操作:

            設(shè)計(jì)考慮: 與封裝設(shè)計(jì)工程師溝通,考慮熱機(jī)械應(yīng)力因素(如避免尖銳轉(zhuǎn)角、優(yōu)化焊盤布局和通孔位置)。在可能的情況下,選擇CTE匹配性更好的基板材料。

            應(yīng)力消除: 在組裝、測試、運(yùn)輸和后續(xù)集成過程中,嚴(yán)格遵守操作規(guī)范,避免對(duì)器件施加不當(dāng)?shù)臋C(jī)械應(yīng)力(如彎曲、跌落)。使用合適的工裝夾具。

         

        4.  加強(qiáng)質(zhì)量監(jiān)控與失效分析:

            過程監(jiān)控: 對(duì)點(diǎn)膠后的填充效果進(jìn)行自動(dòng)光學(xué)檢查,檢查填充飽滿度、有無明顯空洞和溢出。抽樣進(jìn)行切片分析,檢查內(nèi)部填充質(zhì)量和界面狀況。

            可靠性測試: 對(duì)生產(chǎn)批次的樣品進(jìn)行加速可靠性測試(如溫度循環(huán)試驗(yàn)、高溫高濕存儲(chǔ)、壓力鍋蒸煮試驗(yàn))以驗(yàn)證長期可靠性。

            失效分析: 一旦發(fā)生開裂/脫落,立即進(jìn)行失效分析:

            無損檢測: X射線檢查內(nèi)部空洞、裂紋位置。

            破壞性分析:切片后用金相顯微鏡或掃描電鏡觀察裂紋形態(tài)(穿晶/沿晶)、起始位置、界面狀況。

            成分分析: 檢查界面是否有污染物(如EDS分析)。

            材料性能復(fù)測: 測試失效膠塊的Tg、模量、CTE等是否偏離標(biāo)準(zhǔn)值。

            明確失效模式與機(jī)理: 是熱疲勞斷裂?界面粘接失效?還是濕氣導(dǎo)致的失效?根據(jù)分析結(jié)果精準(zhǔn)定位問題根源,指導(dǎo)后續(xù)改進(jìn)。

         

         

        總結(jié)

         

        解決底部填充膠開裂和脫落問題是一個(gè)系統(tǒng)工程,需要從材料選型、點(diǎn)膠工藝控制、設(shè)計(jì)優(yōu)化和嚴(yán)格監(jiān)控四個(gè)方面協(xié)同發(fā)力。最關(guān)鍵的是選擇CTE匹配性好、Tg高、韌性足、耐濕性好的填充膠,并輔以徹底有效的清潔工藝、精確可控的點(diǎn)膠和固化工藝。 同時(shí),建立完善的質(zhì)量監(jiān)控體系和失效分析能力,是快速定位問題、持續(xù)改進(jìn)工藝、確保產(chǎn)品長期可靠性的根本保障。 

        建議與底部填充膠供應(yīng)商的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)緊密合作如漢思新材料,他們能根據(jù)你的具體應(yīng)用(芯片尺寸、基板類型、工作環(huán)境、可靠性要求)提供最匹配的產(chǎn)品推薦和詳細(xì)的工藝指導(dǎo)。 在工藝變更(尤其是換膠)后,務(wù)必進(jìn)行充分的工藝驗(yàn)證和可靠性測試。

         


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